Saiz ciri minimum
Dimensi Kritikal Minimum (CD):
Saiz ciri minimum, yang juga dikenali sebagai saiz setengah padang, adalah salah satu parameter yang paling penting untuk mengukur prestasi mesin litografi.
Antaranya, adalah pemalar yang berbeza -beza dalam skim litografi yang berbeza, di mana λ adalah panjang gelombang sumber cahaya input dan NA adalah apertur berangka sistem optik mesin litografi. Bagi pemalar, kini mesin litografi DUV ASML di Belanda dapat mencapai maksimum sekitar 0.25, sementara EUV masih sekitar 0.35. Semakin kecil panjang gelombang sumber cahaya input, semakin kecil proses fotolitografi sebenar yang dapat dilakukan. Bagi aperture berangka NA, had atas nilai ini biasanya 1.0 untuk skim DUV bukan pembasahan dan sekitar 1.35 untuk skim DUV membasahi. Berbanding dengan litografi bukan rendaman, mesin litografi rendaman menggunakan cecair tambahan untuk pembiasan semasa litografi, biasanya air tulen dengan indeks biasan kira -kira 1.33. Ini juga sebab mengapa mesin litografi rendaman mempunyai NA yang lebih besar.
Ketepatan ukiran
Ketepatan Overlay: Ketepatan penjajaran antara corak topeng dan wafer.
Makna asas merujuk kepada ketepatan penjajaran corak antara kedua -dua proses fotolitografi. Sekiranya sisihan penjajaran terlalu besar, ia akan memberi kesan langsung kepada hasil produk.
Toleransi pendedahan
Lintang pendedahan: Lintang pendedahan, juga dikenali sebagai margin pendedahan, adalah salah satu parameter penting dalam tetingkap proses. Sistem pendedahan optik boleh membentuk julat tenaga pendedahan yang memenuhi keperluan susun atur reka bentuk. Ia biasanya ditakrifkan oleh julat pemilihan tenaga pendedahan dalam ± 10% daripada perubahan nilai CD yang dikesan oleh hasil pendedahan. Sekiranya lebar garis corak terdedah berubah agak sedikit apabila photoresist menyimpang dari dos pendedahan yang optimum, ia menunjukkan bahawa photoresist mempunyai toleransi pendedahan yang besar. Semakin besar toleransi pendedahan, semakin besar toleransi pembangunan.
Toleransi pendedahan dan kontras imej unjuran berkait rapat. Sekiranya saiz ciri imej yang diunjurkan mempunyai kontras imej yang lemah, ia akan terlalu sensitif terhadap perubahan dos
